Note 1 to entry: Inductively coupled plasma is used in etching processes such as deep reactive ion etching.

Note 2 to entry: This note applies to the French language only.

[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.30, modified – In the definition, "inductive coupling" has been replaced by "a high-intensity inductively coupled electromagnetic field".]

Note 1 à l’article: Le plasma à couplage inductif est utilisé dans les procédés de gravure tels que la gravure ionique réactive profonde.

Note 2 à l’article: Le terme abrégé "ICP" est dérivé du terme anglais développé correspondant "inductively coupled plasma".

[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.30, modifié – Dans la définition, "couplage inductif" a été remplacé par "un champ électromagnétique à haute intensité couplé inductivement".]