International

Electrotechnical

Commission

Area

Micro-electromechanical systems (MEMS) / Machining technology

IEV ref

523-05-08

isotropic etching

etching process in which the etching rate does not vary with the crystallographic orientation or direction of the energy beams

Note 1 to entry: A typical isotropic etchant for silicon is HF/HNO₃/CH₃COOH (HNA) solution.

[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.23]

gravure isotrope, f

procédé de gravure dans lequel la vitesse de gravure ne varie pas en fonction de l’orientation cristallographique ou de la direction des faisceaux énergétiques

Note 1 à l’article: L’agent de gravure isotrope typique pour le silicium est la solution HF/HNO₃/CH₃COOH (HNA).

[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.23]

izotropní leptání

isotropes Ätzen, n

等方性エッチング

isotroop etsen, n

trawienie izotropowe, n

decapagem isotrópica
gravura isotrópica

各向同性刻蚀

Publication date: 2018-12