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Area Superconductivity / Production process

IEV ref815-14-13

en
physical vapour deposition process
PVD process
production process of a superconducting thin film mainly by using physical evaporation

Note 1 to entry: The physical vapour deposition process mainly constitutes a thin film by using vacuum evaporation of atomic species or sputter deposition using single or multiple targets in inert or reactive atmospheres (e.g. RF-magnetron sputtering, ion beam sputtering, molecular beam epitaxy, laser ablation).


fr
dépôt physique en phase vapeur, m
méthode PVD, f
méthode de formation d'une couche mince supraconductrice principalement par utilisation de l'évaporation physique

Note 1 à l’article: Pour l'essentiel, le dépôt physique en phase vapeur permet d'obtenir un film mince utilisant l'évaporation sous vide d’espèces atomiques ou le dépôt par pulvérisation sous vide monocible ou multicible en atmosphère inerte ou réactive (par exemple, pulvérisation magnétron radiofréquence, pulvérisation cathodique, épitaxie par jet moléculaire, ablation laser).


de
PVD-Verfahren, n

es
proceso de depósito físico en fase de vapor
proceso PVD

ko
물리 증착법
물리적 증착 처리

ja
物理蒸着法
PVD法

pl
proces fizycznego naparowywania, m

pt
processo de deposição física em fase  vapor
processo PVD

zh
物理气相沉积法
PVD法

Publication date: 2015-11
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